[九师联盟]2023~2024学年高三核心模拟卷(中)(一)1理科综合答案正在持续更新，目前2026衡水金卷周测卷答案网为大家整理了相关试题及答案，供大家查缺补漏，高效提升成绩。

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:全国©所名位高腹益典爸全国@0所名校高孝模拟金典卷本题考查电解质溶液分析。随着pH增大，溶液的碱性增强，HCO、CO浓度均增大，pH较小(6)产品中BaC2·2H20的质量分数为】全国©所名校高考模拟金典卷时c(HCO)>c(COg),故线I代表lgc(HCO)与pH的关系，线Ⅱ代表g@(COg)与pH的关系，线Ⅲ代表（结果保留三位有效数字)。lgc(Ca)与pH的关系，A项正确；b点时，c(HCO)=c(C0g),K1(H,CO)=c(H):c(H0O)盈(1)HC(1分)，HS0,(液)+NC靠热HS0,+HC12分)HB具有无原检，可孩装克或桌化1分)c(H:CO,)(2)防止倒吸(1分)；CuS0,落液（或NaOH落液）(1分)K（H00,)=cH).00),KXKa=10X10-=10,KXKe-2CH:cC0)=d(H*).(3)静置，取上层清液于一洁净试管中，向共中继续滴加H,S0,老液，无台色沉滨生成(2分)c(HCO)c(H2C03)(④)使钡离子沉淀完全(2分)(5)锥形瓶(2分)放pH(b)=8.3,由此可知2pH(b)=pH(a)十pH(c),B项错误；a点溶液中，pH=6.3,KXK=(6)97.6%(2分)2(H)·c(C02=a0t2xc(00g)=10×10a,则c(C0g)=10mol·L,c(Ca+)=c(H2 CO)10-原器本题考查化学实验综合，涉及常见的无机物的制备，一些仅晷的便用，漾作布有关计算等知。0号m0=28mal·L1,C项正确；线I代表1gc(H005)与pH的关系，代入a(6.3,-5)可得K。K(CaCO,)(I)由分析可知，装置A为浓硫酸和复化钠共热制取HC气体的袭量，在装洗骏斌量并微荡时，装克要与复化鳞反cH:cH00)=10t,线Ⅱ代表1g(C0)与pH的关系，代入c10.3,-1.1D可得K=cH)cC0)应生成纯酸氢钠和氧化氢，发生的主要反应的化半方程式为H,S0,(发)+C色aHS0+HC+.c(H2CO3)c(HCO万)(2)氯化氢极易溶于水，装置B中仪塞b的作用是防止倒受；装置B宁复化复与BS多孩反应生浅品S,HS=10,则聚混88}-1，D发工魂有毒，会污染环境，装置C中盛装CuSO,溶液，用于及收H,S。第Ⅱ卷（非选择题共174分）⑦由斑意可知，沉淀所得克骏银的物质的蛋为品二-Q0说以系多集无幸年室可，产是中以。三、非选择题：包括必考题和选考题两部分。第22题~第32题为必考题，每个试题考生都必须作20的物质货量为Q.02m.质亚为002mX24g~m=0经么质至分装品器10%-5兴。答。第33题~第38题为选考题，考生根据要求作答。27.【拔高题】(14分)对废催化剂进行回收可以有效地利用金属资源。某凌催化剂主要含铝(AD(一)必考题：11题，共129分。钼(Mo)、镍(N)等元素的氧化物，一种回收利用该废催化剂工艺的部分流程如下：26.(14分)某实验小组以BaS溶液为原料制备BaC2·2HzO,并用重量法测定产品中BaC2·NaOH(s)过量C0,适量B:C率液2H20的含量。设计如下实验方案：BaVo0,(s)废催化剂可选用试剂：NaCl晶体、BaS溶液、浓H2SO4、稀HzSO,、CuSO,溶液、蒸馏水。一→滤液I一→滤液I-培液■I.BaCl2·2H20的制备搅拌器含N固体X→…→AAs按如图所示装置进行实验，得到BaC2溶液，经一系列已知：25℃时，H2C03的K.=4.5X10-7,K2=4.7X10”;K-(BM0)=3.5X10;步骤获得BaCl2·2H20产品。Kp(BaCO)=2.6X10-。该工艺中，p>6.0时，溶液中Mo以Mo0的形式存在。Ⅱ.产品中BaCl2·2Hz0含量的测定回答下列问题：①称取0.5000g产品，用100mL水溶解，酸化：加热至(1)焙烧”中，有Na2MoO4生成，其中Mo的化合价为接近沸腾；A(2)“沉铝”中，生成的沉淀X为·一（填化学式②在不断搅拌下，向①所得溶液中逐滴加人热的0.100mol·L-1的H2SO,溶液；(3)“沉钼”中，pH为7.0。③沉淀完全后，60℃水浴40mi血，经过滤、洗涤、烘干等操作，获得白色固体，称得其质量为0.4660g。①生成BaMoO,的离子方程式为回答下列问题②若条件控制不当，会产生BaCO沉淀。为避免BMoQ中混入BCO沉淀，溶液中(1)装置A是制取气体的装置；在试剂a过量并微热时，发生的主要反应的化学方程c(HCO):c(Mo)=(列出计算式即可)时，应停止加人BC溶液。式为;用此方法不能制取HBr的原因(4)①滤液Ⅲ中，主要存在的钠盐有NaC1和Y,Y为(填化学式)、是②往滤液Ⅲ中添加适量NaCl固体后，通入足量_(填化学式)气体，再通入足量(2)仪器b的作用是,装置C中的试剂应选用C02,可析出Y。(3)在沉淀过程中，某同学在加入一定量热的H2S0,溶液后，认为沉淀已经完全，判断沉淀已完(5)高纯AlAs(碑化铝)可用于制造芯片。制造芯片时的一HO,刻蚀液全的方法是种刻蚀过程如图所示，图中所示致密的保护健为一种氧光刻掩膜光刘梵膜(4)沉淀过程中需加人过量的H2S0,溶液，目的是化物，可阻止H,O2刻蚀液与下层GaAs(碑化嫁)反应。(5)在过滤操作中，下列仪器中不需要用到的是(填名称)。①该氧化物为(填化学式)。②已知：Ga和A1同族，As和N同族、在HO与上层-GaAs密保护GaAs的反应中，As的化合价变为十5，该反应中的氧化.GaAs剂与还原剂的物质的量之比为-AlAsGaAs【24·D·理科综合化学部分】-QG】【24·D·理科综合（化学部分）一QG)